14-补充说明

补充说明

研究人员开发了纹理单元的许多用途，不仅仅是场景中的纹理模型。在后面的章节中，我们将看到如何使用纹理单元来改变物体反射光线的方式，使其看起来凹凸不平。我们还可以使用纹理单元来存储“高度图”以生成地形，以及存储“阴影贴图”以有效地为场景添加阴影。这些用途将在后续章节中描述。

着色器还可以向纹理写入数据，允许着色器修改纹理图像，甚至将一个纹理的一部分复制到另一个纹理的某个部分。

多级渐远纹理贴图和各向异性过滤不是减少纹理中的叠影伪影的唯一工具。例如，全屏抗锯齿（Full-scene anti-aliasing，FSAA）和其他超采样方法也可以改善3D场景中纹理的外观。虽然不是OpenGL核心的一部分，但它们通过OpenGL的扩展机制^[OE16]在许多显卡上得到支持。

还有一种用于配置和管理纹理和采样器的替代机制。OpenGL 3.3版引入了采样器对象（有时称为“采样器状态”——不要与采样器变量混淆），可用于保存一组独立于实际纹理对象的纹理设置。采样器对象附加到纹理单元，可以方便有效地更改纹理设置。本教材中显示的示例非常简单，我们决定暂不介绍采样器对象。对于感兴趣的读者，采样器对象的使用很容易学习，并且有许多优秀的在线教程（例如^[GE11]）。